本文核心數據：中國半導體清洗設備市場規模;中國半導體濕法設備中超純槽體成本占比;中國半導體濕法設備超純槽體市場規模;企業市占率等

半導體濕法設備超純槽體的概述

半導體濕法設備是用于半導體制造過程中的一系列設備，通過使用化學溶液與半導體材料進行反應來實現特定的工藝目的。

半導體濕法設備超純槽體是半導體濕法設備用于盛放晶圓片、化學清洗液、去離子水等物品的容器，半導體濕法設備關鍵零部件之一。根據化學液的濃度、酸堿度和使用溫度等條件，選擇合適的槽體材料至關重要。常見的材質有NPP、PVDF、PTFE、石英玻璃和不銹鋼等。

半導體濕法設備主要包括濕法清洗刷洗設備及濕法刻蝕設備。目前在主流的芯片制程中，超過90%的芯片刻蝕都是干法，濕法刻蝕設備應用較為有限。而濕法清洗是主流的清洗技術路線，占芯片制造清洗步驟數量的90%以上。因此本文中半導體濕法設備相關市場規模主要指半導體清洗設備市場規模。

半導體濕法設備超純槽體產業鏈結構分析

半導體濕法設備超純槽體的產業鏈上游環節主要由原材料及加工設備構成，提供制造半導體濕法設備超純槽體所需的各類基礎材料。這些材料包括FTFE、PFA、PVDF等塑料原料。中游環節涉及半導體濕法設備超純槽體的設計、研發、生產制造和質量控制。下游環節是半導體濕法設備制造。

中國半導體清洗設備市場分析：市場規模超150億元

根據Markets and Markets的數據，2022-2024年中國全球半導體清洗設備規模逐年增長，2022年、2023年、2024年全球半導體清洗設備市場規模分別為89.95億美元、101.00億美元、111.50億美元(換算成人民幣分別為605.01億元、711.72億元、794.07億元)，年均增速為14.56%。

根據前瞻產業研究院調研，2022年、2023年、2024年，中國半導體清洗設備市場規模分別占全球半導體清洗設備規模的17%、18%、20%，故2022年、2023年、2024年中國半導體清洗設備市場規模分別為102.85億元、128.11億元、158.82億元。

中國半導體濕法設備中，超純槽體成本占比約2%

半導體濕法設備超純槽體是半導體濕法設備的關鍵部件，目前市場價格在3-5萬元左右，假設單臺清洗設備槽體需求為5個，則2022年、2023年、2024年中國半導體清洗設備的超純槽體成本分別為15.0萬元、17.5萬元、21.0萬元。

盛美上海為中國半導體濕法設備主要生產企業之一，按照盛美上海公布的年報數據計算，2022年、2023年、2024年其單臺清洗設備原材料總成本分別為765.6萬元、797.6萬元、1098.5萬元。2022年、2023年、2024年超純槽體成本占比分別為1.96%，2.19%，1.91%。

注：1)單臺清洗設備超純槽體成本=超純槽體單價*單臺清洗設備槽體需求;2)單臺清洗設備原材料成本=清洗設備原材料總成本/清洗設備產量;3)單臺清洗設備原材料超純槽體成本占比=單臺清洗設備超純槽體成本/單臺清洗設備原材料成本*100%。

中國半導體濕法設備超純槽體市場規模：2024年超過3億元

基于上述數據，得到2022年、2023年、2024年中國半導體濕法設備超純槽體市場規模分別為2.02億元、2.81億元、3.03億元。

注：中國半導體濕法設備超純槽體市場規模=中國半導體清洗設備市場規模*中國半導體濕法設備超純槽體成本占比。

中國半導體濕法設備超純槽體市場競爭格局：三家代表企業市占率接近70%

半導體濕法設備超純槽體對產品的技術要求較高，目前國內能夠生產滿足半導體制造要求的企業主要有沃凱氟、沃特華本、霓佳斯等，其他企業市場份額占比較小。

更多本行業研究分析詳見前瞻產業研究院《全球及中國半導體儀器儀表行業發展前景展望與投資戰略規劃分析報告》

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