行業主要上市公司：清溢光電(688138);路維光電(688401);中芯國際(688981);華宏半導體(01347)等;

本文核心數據：全球半導體掩膜版行業市場規模;

2024年全球半導體掩膜版行業市場規模近400億元

掩膜版(Photomask)，又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版等，是微電子制造中光刻工藝所使用的圖形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形，并通過曝光將圖形轉印到產品基板上。按應用領域來看，掩膜版可分為半導體芯片、平板顯示、電路板和觸控等類型。其中由于掩膜版是芯片制造過程中的圖形“底片”，用于轉移高精密電路設計，承載了圖形設計和工藝技術等知識產權信息，因此掩模版被廣泛用于芯片的批量生產，當前半導體掩膜版也是掩膜版應用的最大下游領域。2023年全球半導體掩膜版行業市場規模約380億元，近五年行業復合增速為7.29%。初步估算，2024年全球半導體掩膜版行業市場規模進一步增長至近400億元。

區域市場

從全球半導體掩膜版區域發展情況來看，中國臺灣地區一直以來都是全球半導體掩膜版最大的下游應用區域市場。當前中國臺灣地區市場占全球半導體掩膜版市場規模的38%。

產業競爭

在全球半導體掩模版市場，晶圓廠自行配套的掩模版工廠規模占比65%，獨立第三方掩模廠商規模占比35%，其中獨立第三方掩模版市場主要被美國Photronics、日本Toppan 和日本DNP 三家公司所控制，三者共占八成以上的市場規模，市場集中度較高。

更多本行業研究分析詳見前瞻產業研究院《全球及中國掩膜版（光刻掩膜版）行業發展前景預測與投資戰略規劃分析報告》

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