行業主要上市公司：清溢光電(688138);路維光電(688401);中芯國際(688981);華宏半導體(01347)等;

本文核心數據：中國半導體掩膜版行業市場規模;

2024年中國半導體掩膜版行業市場規模近120億元

掩膜版(Photomask)，又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版等，是微電子制造中光刻工藝所使用的圖形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形，并通過曝光將圖形轉印到產品基板上。按應用領域來看，掩膜版可分為半導體芯片、平板顯示、電路板和觸控等類型。其中由于掩膜版是芯片制造過程中的圖形“底片”，用于轉移高精密電路設計，承載了圖形設計和工藝技術等知識產權信息，因此掩模版被廣泛用于芯片的批量生產，當前半導體掩膜版也是掩膜版應用的最大下游領域。2023年中國半導體掩膜版行業市場規模超過110億元，近五年行業復合增速為9.04%。初步估算，2024年中國半導體掩膜版行業市場規模進一步增長至近120億元。

需求分析

從需求來看，當前半導體掩膜版下游應用的半導體行業在我國正處于快速發展的階段，2018年以來行業規模快速增長，從僅6500億元增長至超14000億元的規模，行業需求潛力旺盛。受下游需求的積極推動，預計我國半導體掩膜版行業也將保持持續的增長。

產業競爭

當前中國半導體制造用掩膜版行業呈現“外資主導、本土追趕”的競爭格局。大部分市場由美國Photronics、日本Toppan和DNP三大巨頭壟斷，國內企業如清溢光電、路維光電、中芯國際光罩廠等主要聚焦中低端市場，工藝節點多集中在130nm以上。隨著政策支持和國產替代加速，本土企業正逐步向高端制程突破，但技術差距仍需時間追趕。

更多本行業研究分析詳見前瞻產業研究院《全球及中國掩膜版（光刻掩膜版）行業發展前景預測與投資戰略規劃分析報告》

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