行業(yè)主要上市公司：清溢光電(688138);路維光電(688401);中芯國際(688981);華宏半導體(01347)等;

本文核心數據：全球掩膜版行業(yè)市場規(guī)模;

2024年全球掩膜版行業(yè)市場規(guī)模約530億元

掩膜版(Photomask)，又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版等，是微電子制造中光刻工藝所使用的圖形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形，并通過曝光將圖形轉印到產品基板上。掩模版多用于芯片和平板顯示的批量生產，是下游生產流程銜接的關鍵部分。2023年全球掩膜版行業(yè)市場規(guī)模超500億元，近五年行業(yè)復合增速為6.73%。初步估算，2024年全球掩膜版行業(yè)市場規(guī)模進一步增長至約530億元。

應用市場

從應用結構來看，半導體芯片和平板顯示是掩膜版主要的兩大應用領域，其中由于在半導體芯片領域，掩膜版是芯片制造過程中的圖形“底片”，用于轉移高精密電路設計，承載了圖形設計和工藝技術等知識產權信息，因此廣泛應用于芯片生產，故而市場應用份額占比最大，超過了75%。

產業(yè)競爭

全球領先的第三方掩膜版生產企業(yè)主要有福尼克斯(PHOTRONICS)、PKL、LG-IT和DB HITEK等。這些企業(yè)掌握了掩膜版的核心關鍵技術，占據行業(yè)內領先市場份額。

更多本行業(yè)研究分析詳見前瞻產業(yè)研究院《全球及中國掩膜版（光刻掩膜版）行業(yè)發(fā)展前景預測與投資戰(zhàn)略規(guī)劃分析報告》

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