產業鏈——集成電路關鍵制造設備之一

CVD(化學氣相沉積)是指化學氣體或蒸汽在基質表面反應合成涂層或納米材料的方法，是工業中應用最為廣泛的用來沉積多種材料的技術，包括大范圍的絕緣材料，大多數金屬材料和金屬合金材料。其一般應用于集成電路制造、粉末合成、金屬精致等。

CVD設備則是CVD應用的載體，是實現CVD的必要條件。

產業政策——對于CVD設備重視程度較高

從政策環境上來看，我國對于CVD設備較為重視，其主要體現在相關政策對于發展半導體設備的支持。如《“十三五”國家科技創新規劃》中，薄膜設備(PVD設備、CVD設備等)被列為國家需要攻克的高端制造裝備;《中國制造2025》中也提到，要形成集成電路關鍵制造設備的供貨能力。

技術工藝——工藝不斷發展變遷

近年來，CVD工藝不斷發展，形成了較為固定的工藝流程，同時也根據不同的應用演化出了APCVD、LPCVD、PECVD等不同的CVD技術。一般來說，不同的CVD技術需要不同的CVD設備來承載，一定程度上也促進了CVD設備制造工藝的發展。

競爭格局——CR3達到70%

全球CVD設備市場的主要企業有應用材料、泛林半導體和TEL這三家，據Gartner披露，這三家企業合計占據了全球近70%的市場份額。其中，應用材料所占市場份額為30%;泛林半導體和TEL各自占據21%和19%。

細分格局——PECVD仍為主流

目前全球主流的CVD設備仍為PECVD、APCVD和LPCVD，據Gartner數據披露，這三類CVD設備合計市場份額約占總市場份額的70%;其中PECVD的市場份額約為35%。

國產化分析——相關技術仍需進步

我國CVD設備的國產化率近年來雖然在不斷增長，但整體來看仍然較低。從長江儲存2017年至2020年2月CVD設備累計招標采購份額來看，僅有3%的CVD設備來自于我國國產企業(沈陽荊拓)，由此可見，我國CVD設備競爭力與海外知名企業相比仍具有一定的差距。

目前我國CVD設備的主要生產企業包括北方華創和沈陽荊拓，這兩家企業近年來發展勢頭較好，CVD設備相關技術也正在加緊研發中，未來或將成為我國CVD設備國產化率大幅提升的主要動力源。

以上數據來源于前瞻產業研究院《中國半導體產業戰略規劃和企業戰略咨詢報告》，同時前瞻產業研究院提供產業大數據、產業規劃、產業申報、產業園區規劃、產業招商引資等解決方案。

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