半導體光刻膠種類繁多，已應用產(chǎn)品主要可分為四大類

光刻膠被廣泛應用于光電信息產(chǎn)業(yè)的微細圖形線路的加工制作，是微細加工技術的關鍵性材料。按應用領域，光刻膠可以分為半導體光刻膠、PCB光刻膠、LCD光刻膠等。

按顯示效果，又可將光刻膠分為正性光刻膠和負性光刻膠。正性光刻膠顯影時未曝光部分溶解于液，形成的圖與掩膜版相反。負性光刻膠顯影時曝光部分溶解于液，形成的圖與掩膜版相同。由于負性光刻膠顯影時易變形和膨脹，分辨率一般只能達到2微米，所以正性光刻膠的應用更為普及。

半導體光刻膠種類繁多，從目前市場上已實際應用的主要半導體光刻膠來看，其按照曝光波長，可分為g線（436nm）、i線（365nm）、KrF（248nm）和ArF（193nm）等4個大類。其中，ArF光刻膠為目前分辨率最高的半導體光刻膠。g線和i線光刻膠為目前市場上使用量最大的光刻膠。

全球半導體光刻膠占總體的24.1%，中國半導體光刻膠僅占總體的1.6%

從全球產(chǎn)品市場來看，LCD光刻膠占比最高，為26.6%。PCB光刻膠占比位居第二，為24.5%。半導體光刻膠占比位居第三，為24.1%?？傮w看來，半導體光刻膠、PCB光刻膠、LCD光刻膠三類占比較為均衡。

從中國產(chǎn)品市場來看，PCB光刻膠市場份額占比最多，高達94.4%。LCD光刻膠市場份額占比第二，為2.7%。半導體光刻膠市場份額占比位居第三，僅為1.6%?？傮w看來，中國市場PCB光刻膠占據(jù)大部分市場份額，LCD光刻膠和半導體光刻膠所占份額非常低。

中國半導體光刻膠市場規(guī)模占全球比重最大，約為32%

2017年，從全球區(qū)域市場來看，中國半導體光刻膠市場規(guī)模占全球比重最大，達到32%。其次是美洲地區(qū)，其光刻膠市場規(guī)模占全球比重為21%。亞太地區(qū)緊跟其后，光刻膠市場規(guī)模占全球比重為20%。歐洲、日本地區(qū)所占比重較低，大約均為9%。

全球半導體光刻膠市場規(guī)模將不斷擴大，ArF光刻膠仍將是主流

2017年，全球半導體光刻膠銷售額達到12.05億美元的市場規(guī)模。從全球半導體光刻膠分類市場份額占比來看，g/i線光刻膠市場份額占比為24.0%，KrF光刻膠市場份額占比為22.0%，ArF/液浸ArF光刻膠市場份額占比為41.0%。

未來，隨著功率半導、傳感器、LED市場的持續(xù)擴大，i線光刻膠市場將保持持續(xù)增長。隨著精細化需求增加，使用i線光刻膠的應用將被KrF光刻膠替代，KrF光刻膠市場需求將不斷增加。ArF光刻膠對應IC制程節(jié)點最為先進，在7nm制程的EUV技術成熟之前，ArF光刻膠仍將是主流，隨著雙/多重曝光技術的使用，光刻膠的使用次數(shù)增加，ArF光刻膠的市場需求將加速擴大。

以上數(shù)據(jù)來源參考前瞻產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《中國信息化學品行業(yè)產(chǎn)銷需求與投資預測分析報告》。

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